無(wú)掩模曝光設(shè)備PALET
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產(chǎn)品特點(diǎn)
特征
硬件
顛覆行業(yè)常識(shí)的低價(jià)設(shè)定
“無(wú)掩模曝光設(shè)備很方便，但要花費(fèi)數(shù)千萬(wàn)日元，所以還是放棄吧?！睘榱?/font>
打破常識(shí)，我們大膽縮小了功能范圍，實(shí)現(xiàn)了壓倒性的性?xún)r(jià)比。此外，該系列還包括手動(dòng)載物臺(tái)模型，這對(duì)于無(wú)掩模曝光系統(tǒng)來(lái)說(shuō)是不常見(jiàn)的。
您可以通過(guò)減少初始投資來(lái)準(zhǔn)備研究環(huán)境（*3）。
最大曝光面積為25mm（*4），最小曝光線(xiàn)寬為3μm，讓您可以選擇您的研究區(qū)域，高自由度和低安裝成本將有力協(xié)助您的研發(fā)。
*3可以從手動(dòng)載物臺(tái)型號(hào)升級(jí)為電動(dòng)載物臺(tái)型號(hào)。
*4對(duì)于需要更大曝光范圍的客戶(hù)，我們提供“100大舞臺(tái)模型”。
易于使用的設(shè)備規(guī)格
“我們不能讓學(xué)生或外人使用我們的重要設(shè)備！”有時(shí)
我們會(huì)看到校園設(shè)備因?yàn)檫@樣的原因而沒(méi)有被經(jīng)常使用。重要的裝備如果變成了寶藏那就太浪費(fèi)了。PALET 是一種用戶(hù)友好的設(shè)備，不需要硬件或軟件方面的技術(shù)技能。
大多數(shù)人在幾個(gè)小時(shí)的設(shè)備演示中學(xué)會(huì)了基本操作，而且我們聽(tīng)說(shuō)它很容易使用。
請(qǐng)隨意嘗試光刻技術(shù)。
無(wú)需安裝空間的桌面型
“實(shí)驗(yàn)室很小，沒(méi)有地方放置曝光設(shè)備?！?/font>
為了回應(yīng)這樣的聲音，我們以“桌面光刻”為關(guān)鍵詞，徹底縮小了設(shè)備尺寸，實(shí)現(xiàn)了A3大小的安裝面積（*1） 。當(dāng)然，不需要額外的曝光設(shè)備，例如掩模對(duì)準(zhǔn)器。此外，通過(guò)采用浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，抑制振動(dòng)，無(wú)需隔振臺(tái)，并提供內(nèi)置氣源進(jìn)行真空抽吸。壓縮空氣等在安裝過(guò)程中容易成為障礙的公用設(shè)施已被拆除。您只需準(zhǔn)備一張桌子和一個(gè) 100V 電源（*2）。
*1還包括一臺(tái)筆記本電腦。此外，電動(dòng)舞臺(tái)型號(hào)還配有舞臺(tái)驅(qū)動(dòng)器。
*2請(qǐng)準(zhǔn)備顯影環(huán)境和避光環(huán)境。
專(zhuān)為 PALET 設(shè)計(jì)的 2 倍物鏡
精細(xì)結(jié)構(gòu)和微通道的厚膜曝光需要具有深焦深的物鏡。PALET專(zhuān)用2倍物鏡實(shí)現(xiàn)了數(shù)百微米的厚膜曝光(*5)。以前需要使用掩模對(duì)準(zhǔn)器的厚膜抗蝕劑現(xiàn)在可以在沒(méi)有掩模的情況下進(jìn)行曝光。
*5取決于所使用的抗蝕劑。