曝光設(shè)備原理
?闡述了曝光設(shè)備的測量原理。曝光系統(tǒng)由光源、偏轉(zhuǎn)透鏡、光掩模、聚焦透鏡、工作臺、傳送硅片的機(jī)械手等組成。
鏡頭、光掩模等的設(shè)計(jì)精度極高，而且平臺的運(yùn)行精度也很高。操作時(shí)，待曝光的物體被精確地固定在載物臺上。在操作中，每次曝光時(shí)，移動的平臺都會將多個圖案寫入目標(biāo)上。
從光源發(fā)射出的強(qiáng)烈的短波長光經(jīng)過偏轉(zhuǎn)透鏡的偏轉(zhuǎn)，照射到光掩模上，而光掩模就是制作電路圖案的原型。穿過光掩模的光線經(jīng)聚焦透鏡聚焦，在待曝光的目標(biāo)上描繪出極其微小的電路圖案。
一旦整個物體的曝光完成，它就會被機(jī)器人或類似設(shè)備運(yùn)送。在某些產(chǎn)品中，要曝光的物體浸沒在液體中，從而可以實(shí)現(xiàn)更精確的曝光。