無掩模曝光設(shè)備PALET產(chǎn)品特點
?
產(chǎn)品特點
特征
硬件
顛覆行業(yè)常識的低價設(shè)定
“無掩模曝光設(shè)備雖然方便，但要花費數(shù)千萬日元，所以還是放棄吧?！睘榱?/font>
打破常識，我們大膽縮小了功能范圍，取得了壓倒性的性價比。此外，該系列還包括手動載物臺模型，這對于無掩模曝光系統(tǒng)來說是不尋常的。
您可以通過減少初始投資來準備研究環(huán)境（*3）。
最大曝光面積為25mm（*4），最小曝光線寬為3μm，讓您可以選擇您的研究區(qū)域，高自由度和低安裝成本將有力協(xié)助您的研發(fā)。
*3可以從手動舞臺模型升級到電動舞臺模型。
*4對于需要更大曝光范圍的客戶，我們提供“100大型舞臺模型”。
易于使用的設(shè)備規(guī)格
“我們不能讓學(xué)生或外人使用我們的重要設(shè)備！”
有時我們會看到校園設(shè)備因為這樣的原因而使用頻率較低。重要的裝備如果變成了寶藏那就太浪費了。 PALET 是一種用戶友好的設(shè)備，不需要硬件或軟件方面的技術(shù)技能。
大多數(shù)人在幾個小時的設(shè)備演示中學(xué)會了基本操作，而且我們聽說它很容易使用。
請隨意嘗試光刻技術(shù)。
無需安裝空間的桌面型
“實驗室很小，沒有地方放置曝光設(shè)備?！?/font>
為了回應(yīng)這樣的聲音，我們以“桌面光刻”為關(guān)鍵詞，徹底縮小了設(shè)備尺寸，實現(xiàn)了A3尺寸的安裝面積（* 1）。當(dāng)然，不需要額外的曝光設(shè)備，例如掩模對準器。此外，通過采用浮動結(jié)構(gòu)，抑制振動，無需隔振臺，并提供內(nèi)置氣源進行真空抽吸。壓縮空氣等在安裝過程中容易成為障礙的公用設(shè)施已被拆除。您只需準備一張桌子和一個 100V 電源（*2）。
*1還包括一臺筆記本電腦。此外，電動舞臺型號還配有舞臺驅(qū)動器。
*2請準備好顯影環(huán)境和避光環(huán)境。
專為 PALET 設(shè)計的 2 倍物鏡
精細結(jié)構(gòu)和微通道的厚膜曝光需要具有深焦深的物鏡。 PALET專用2倍物鏡實現(xiàn)了數(shù)百微米的厚膜曝光(*5)。 以前需要使用掩模對準器的厚膜抗蝕劑現(xiàn)在可以在沒有掩模的情況下進行曝光。
*5取決于所使用的抗蝕劑。
舞臺布置
我們在舞臺上準備了一個可拆卸的別針?？梢愿鶕?jù)電路板尺寸改變排列。此外，還可以使用專用的板限位器。請自行準備專用塞子或聯(lián)系我們。
-
與銷對齊（標準）
-
定位夾具示例
-
超大曝光夾具示例