什么是半導體曝光設(shè)備?
?半導體曝光設(shè)備是半導體制造過程中用于在硅片上繪制電路圖案的設(shè)備。強大的紫外光透過光掩模,作為電路圖案的原型,電路圖案被轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的硅晶片上。近年來,一些設(shè)備使用波長為13 nm(稱為EUV)的激光來微型化精細電路圖案。由于定位等要求極高的精度,因此設(shè)備價格昂貴。
?半導體曝光設(shè)備是半導體制造過程中用于在硅片上繪制電路圖案的設(shè)備。強大的紫外光透過光掩模,作為電路圖案的原型,電路圖案被轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的硅晶片上。近年來,一些設(shè)備使用波長為13 nm(稱為EUV)的激光來微型化精細電路圖案。由于定位等要求極高的精度,因此設(shè)備價格昂貴。